|
Подробная информация о продукте:
Оплата и доставка Условия:
|
| Тип: | Микроскоп контраста участка | Объективный: | микроскоп 4кс 10кс 40кс |
|---|---|---|---|
| Drawtube: | Trinocular | Окуляр: | WF10X/20mm |
| Увеличение: | 40x-1000x | Применение: | микроскопы |
| Головка просмотра: | Бинокулярная склоненная голова | Материал: | Все-умственное тело |
| Другое имя: | Лабораторный Микроскоп | ||
| Высокий свет: | phase contrast light microscope,highest magnification microscope |
||
ТЭКХНИКАЛСПЭКИФИКАТИОНС
ЭИЭПЭКЭ
• Выдвинутые окуляры ЭВФ 10кс/20 мм, Ø трубки 30 мм.
• Окуляры можно обеспечить к трубкам
ГОЛОВЫ
• Тип головы Тринокулар Сидентопф с трубками склоненными 30°, интерпупиллары расстоянием от 52 до 75 мм и оборудован с регулировками диоптер.
• Тринокулар голова приходит с Ø 30 мм порта фото.
• Опционная эргономическая озаглавливая голова (50:50 0:100) также доступна (Отионал)
НОСЭПИЭКЭ
• Вращаясь и обращенный носепьесе для 4 задач (5 задач опционные)
ЗАДАЧИ
Вся оптика обработанный анти--грибок и анти--отражение покрытое для максимального светлого объема
Масло задач 4кс/0.13 10кс/0.30 20кс/0.40 С40кс/0.70 С100кс/1.25 контраста участка безграничности ахроматическое (опционное)
Масло задач 4кс/0.10 10кс/0.25 С40кс/0.65 С100кс/1.25 контраста участка плана безграничности (стандартное) С60кс/0,80 (опционное)
ЭТАП
• этап 156 кс 138 мм керамический с интегрированным этапом 76 кс 54 мм механическим защищает с очень жесткой керамической поверхностью, против меток и царапин. Поверхность также обеспечивает случайный свет, который нужно не отразить от этапа в задачу
• этап 185 кс 177 мм раклесс оборудовал с держателем двойного скольжения и интегрировал этап 75 кс 50 мм раклесс механический. Он не имеет никакие выступая части, включающ более ровные движения и более безопасен (опционный)
КОНДЕНСАТОР ДЛЯ ПХАСЭОНТРАСТ
• НА опционной высоты регулируемый. 1,25 фазируют конденсатор диска контраста с задачами погружения участка 10/20/С40кс С60кс плана и масла С100кс
и затемненное поле останавливает положение для контраста затемненного поля до увеличения 400кс (опционного)
ФОКУСИРОВАТЬ
• Коаксиальное грубое и прецизионные установки, 100 градаций, 1 μм в градацию, μм 100 согласно с вращение, полное перемещение приблизительно 14 мм. (большая часть до 25мм)
• Поставленный с регулируемым стопом шкафа для предотвращения повреждения к образцу и задачам.
• Грубые настройки оборудованы с управлением трением
ОСВЕЩЕНИЕ
• Освещение СИД 3 в регулируемое с внутренним электропитанием 100-240 в
• Апертуры новаторского предложения дизайна более большие, позволяющ оптической системе микроскопа произвести изображения на более высоких разрешениях,
очень близко к теоретическому пределу огибания оптики.
Другие преимущества НеоЛЭД низкое энергопотребление, никакое топление и длинная работая продолжительность жизни
• Освещение на моделях с системой плана ИОС и участка плана исправленной безграничностью предусматривает сверхконтрастный и максимальный достижимый разрешать
сила оптики. Также доступный для других моделей как вариант
УПАКОВКА
• Поставленный с шнуром питания, противопыльным кожухом, запасным взрывателем, мл потребителя ручными и 4 масла погружения для моделей с задачей С100кс.
• Все упаковали в пене и коробке хорошего качества.
СПИСОК КОНФИГУРАЦИИ
| Код заказа | Деталь | УПХ202и | УПХ203и |
| КТ2 | Центризовать окуляр | ● | ● |
| ВБ-С4К | Задача 4С Н.А.0.13 безграничности ахроматическая | ○ | ○ |
| ВБ-СПХп10К | Безграничность Ач. Задачи Участк-контраста (положительное) 10С | ○ | ○ |
| ВБ-СПХп40К | Безграничность Ач. Задачи Участк-контраста (положительное) 40С (с) | ○ | ○ |
| ВБ-СПХп100К | Безграничность Ач. Масло положительное) 100С задач Участк-контраста ((с) | ○ | ○ |
| ВБ-СПХн10К | Безграничность Ач. Задачи Участк-контраста (отрицательное) 10С | ○ | ○ |
| ВБ-СПХн40К | Безграничность Ач. Задачи Участк-контраста (отрицательное) 40С (с) | ○ | ○ |
| ВБ-СПХн100К | Безграничность Ач. Масло отрицательное) 100С задач Участк-контраста ((с) | ○ | ○ |
| ВБ-П4К | Задачи 4С плана безграничности ахроматические | ● | ● |
| ВБ-ППХп10К | Задачи Участк-контраста плана безграничности (положительное) 10С | ● | ● |
| ВБ-ППХп20К | Задачи Участк-контраста плана безграничности (положительное) 20С | ○ | ○ |
| ВБ-ППХп40К | Задачи Участк-контраста плана безграничности (положительное) 40С (с) | ● | ● |
| ВБ-ППХп60К | Задачи Участк-контраста плана безграничности (положительное) 60С (с) | ○ | ○ |
| ВБ-ППХп100К | Масло положительное) 100С задач Участк-контраста плана безграничности ((с) | ● | ● |
| ВБ-ППХн10К | Задачи Участк-контраста плана безграничности (отрицательное) 10С | ○ | ○ |
| ВБ-ППХн20К | Задачи Участк-контраста плана безграничности (отрицательное) 20С | ○ | ○ |
| ВБ-ППХн40К | Задачи Участк-контраста плана безграничности (отрицательное) 40С (с) | ○ | ○ |
| ВБ-ППХн60К | Задачи Участк-контраста плана безграничности (отрицательное) 60С (с) | ○ | ○ |
| ВБ-ППХн100К | Масло отрицательное) 100С задач Участк-контраста плана безграничности ((с) | ○ | ○ |
| ЗТ2 | Механический этап, 156С138мм, ряд движения 76С54мм | ● | ● |
| ЗТ2Б | Этап Раклесс, праворукий, 185С177мм, ряд движения 75С50мм | ○ | ○ |
| ЗК480 | Четырехшпиндельный Носепьесе, внутренняя облицовка | ● | ● |
| ЗК580 | Носепьесе кинтупле, внутренняя облицовка | ○ | ○ |
